物質系専攻 博士課程3年Haoming Che 氏が 第31回 電子デバイス界面テクノロジー研究会において若手奨励賞（安田幸夫賞）を受賞
投稿日：2026/02/02
- 受賞 / 表彰
2026年1月29日～30日に静岡県三島市で開催された第31回 電子デバイス界面テクノロジー研究会 において、物質系専攻喜多研究室 、博士課程3年のHaoming Che 氏が若手奨励賞（安田幸夫賞）を受賞しました。
発表タイトル："ALD-HZO薄膜の低温結晶化におけるH2O2酸化剤のH2O酸化剤に対する本質的優位性"
写真左が白石 賢二教授 (東北大学、 運営委員長)、右がHaoming Che 氏 。
