2025年11月5日～7日に仙台市で開催されたThe 2025 International Workshop on “Dielectric Thin Films for Future Electron Devices: Science and Technology” (IWDTF2025) において、物質系専攻喜多研究室 、博士課程3年のHaoming Che 氏がYoung Researcher Awardを受賞しました。

発表タイトル

"Impacts of oxidant selection and oxidant exposure time in ALD growth on crystallization of as-deposited HZO thin films"

写真左から金田 千穂子教授（東北大学, Organizing Committee Chairperson)、Haoming Che 氏 。