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物質系専攻 喜多研究室の女屋崇助教が、10月23日～25日に石川県金沢市で開催された2023 International Workshop on "Dielectric Thin Films for Future Electron Devices: Science and Technology" (IWDTF2023)にて、IWDTF Young Researcher Awardを受賞しました。

発表題目：Origin of Fatigue Properties Induced by Oxygen Vacancies Originating from Ferroelectric-Hf_xZr_1−xO₂/TiN Interface Reaction During Field Cycling

なお本発表の内容は、国立研究開発法人 物質・材料研究機構 (NIMS)との共同研究の成果の一部です。(https://www.nims.go.jp/mana/jp/news_room/awards/2023112001.html)

受賞者一覧：http://iwdtf.org/awards/

写真左から、喜多浩之教授、女屋崇助教、生田目俊秀博士(NIMS)